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你了解CMP設(shè)備是如何拋光和清洗的嗎?
發(fā)布日期:2025/2/14 8:53:44?      瀏覽次數(shù):      

你了解CMP設(shè)備是如何拋光和清洗的嗎?

答/:眼前這個(gè)在賣力研磨的“強(qiáng)迫癥”,就是半導(dǎo)體制造中的核心工藝裝備,化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備,簡(jiǎn)稱CMP設(shè)備。它通過化學(xué)腐蝕和機(jī)械研磨的結(jié)合,去除晶圓表面多余材料,實(shí)現(xiàn)高精度平坦化處理,為后續(xù)光刻、刻蝕等工藝奠定基礎(chǔ)。

 CMP設(shè)備的核心包括拋光部分和清洗部分。拋光部分由拋光頭和研磨盤組成,拋光頭吸附晶圓并施加壓力,研磨盤帶動(dòng)拋光墊旋轉(zhuǎn),確保表面平整。清洗部分則通過清洗刷和供液系統(tǒng)去除拋光后的顆粒和污染物,保證晶圓潔凈。 

在這個(gè)工作過程中,很多部位或者零部件,都會(huì)暴露于研磨液等腐蝕性介質(zhì)中,因此對(duì)軸承的耐腐蝕性、耐磨性和耐高溫性能要求嚴(yán)苛。軸承一旦損壞,可能導(dǎo)致設(shè)備振動(dòng)增加、精度下降,甚至引發(fā)晶圓劃傷,造成巨額損失。 

因此,選擇合適的軸承至關(guān)重要,陶瓷軸承因其耐腐蝕、高剛性、低熱膨脹、非磁性等特性,完美適應(yīng)CMP設(shè)備的嚴(yán)苛環(huán)境。例如,讓云軸承中的氮化硅陶瓷軸承在高溫、高速和化學(xué)腐蝕環(huán)境下表現(xiàn)優(yōu)異,能顯著延長(zhǎng)設(shè)備壽命,降低維護(hù)成本。如果您有類似工況,軸承的選擇困惑,可隨時(shí)聯(lián)系我們!

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